硅片外延工艺危险有害气体有哪些
作为LED产业中的核心技术之一,硅片外延指的是在衬底上生长出的半导体薄膜,主要作用是增加碳化硅片某些电学特性并消除了许多在晶体生长和其后的晶片加工中所产生的表明缺陷。在进行碳化硅片外延工艺时,需要使用到含硅气体源和刻蚀气体,而这些所使用的气体都属于对人体有毒有害的气体。那么硅片外延工艺危险有害气体有哪些呢?一般而言,主要包括硅烷、二氯硅烷、三氯硅烷、氯化氢、氢气、锗烷、甲基硅烷等,而在现场安装使用碳化硅外延生产区有害气体报警器就是为了对这些气体进行监测,以免发生危险。